Proizvođač: Kontakt Chemie (CRC Industries Europe)
Naziv proizvoda: Positiv 20 (tekući foto-pozitivni rezist, aerosol 200 ml)
Opis:
Poseban foto-osjetljivi lak na bazi o-nafto-kinon-diazida i Novolack smole, dizajniran za direktan prijenos uzorka (pozitiv) na bakrenu površinu tokom tehnologije proizvodnje pločica (PCB). Otporan na jake kiseline, lako ga je ukloniti esterima, ketonima ili lužinama. Idealno osjetljiv u UVA spektru te se nanosuje pod žutom svjetlošću ili prigušenim ambijentalnim svjetlom.
Primjena:
Koristi se u pojedinačnoj izradi PCB ploča ili manjim serijama kroz foto-litografiju. Također je pogodan za prijenos foto-uzoraka na staklo, metal i druge materijale otporne na svjetlo.
Način primjene:
Površinu prethodno očistiti od masnoće i oksida. Lak nanijeti iz aerosol limenke vodoravno, u komunikacionom uzorku (zig-zag) u sloju od 6-8 µm dobivajući bluish film. Suši se u mraku; sušenje nastaviti na povišenoj temperaturi (do 70 °C) oko 15-20 min. Nakon izlaganja UV (340–420 nm) odstranjuje se nepotrebni materijal u vodici s NaOH.
Pokrovnost:
Približno 1 m² uzorka pri debljini 8 µm s limenkom od 200 ml.
Osjetljivost svjetla:
Najveća UV-osjetljivost nalazi se između 340 i 420 nm. Stoga treba izbjegavati izravno sunčevo svjetlo.
